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电阻热蒸发镀膜——“蒸发技术”介绍钙钛矿镀膜设备

电阻热蒸发镀膜——“蒸发技术”介绍

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蒸发技术分为间歇蒸发与连续蒸发、直接电阻加热蒸发和间接电阻加热蒸发，连续生产与制造厚膜时采用连续蒸发加热。一个入射的蒸气原子在表面的滞留时间中，原子不断地扩散形成不均匀的成核作用，钙钛矿镀膜设备哪家好，随着蒸气原子不断地冲击表面，钙钛矿镀膜设备厂，各个核都在增长，相邻各核开始接触进入聚结阶段，直到形成连续膜。也可把上述过程划分为小岛阶段、网络阶段、孔阶段及连续膜阶段。

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电阻蒸发镀膜设备介绍

工作原理：真空电阻蒸发镀膜设备是在真空室中利用电阻加热法，将紧贴在电阻丝上的金属丝（铝丝）熔融汽化，汽化了的金属分子沉积于基片上，而获得光滑高反射率的膜层，达到装饰美化物品表面的目的。

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300C有机无机联合蒸发

主要用途： 　　

用于制备导电薄膜，半导体薄膜，铁电薄膜，光学薄膜等。 　　

系统组成: 　　

该蒸镀设计系统主要由真空抽气及真空测量系统、真空室系统、工件架系统、蒸发源系统、膜厚测试系统、蒸发舟挡板系统、 烘烤照明系统、水冷却循环及报警系统、电控及控制系统、辅助系统等设计。 　　

技术指标： 　　

极限真空度：≤6.7×10 Pa 　　

恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min 　　

系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S； 　　

真空室：Ф400 x400mm圆筒型真空室 ， 　　

蒸发源：1-4个，采用电阻蒸发舟、蒸发蓝、绞丝、束源炉至下向上蒸发镀膜。 　

蒸发温度：加热温度：室温～1800℃； 　　

蒸发舟在距中心100～160mm的圆周上；蒸发舟可上下升降，调节幅度0～150mm（样品中心与坩埚距离150~300mm）； 　　工作架类型及尺寸：样品托盘直径Φ300mm，其上可放多个直径20mm的小样品；样品托盘具有自转功能，转速在0～20 转/分 钟，转速可调；样品托盘可摆角，角度在0～30度可调； 　　

烘烤温度：400℃数显自动热偶控温（高温炉盘，数显自动热偶控温可加热到700℃） 　　

电阻蒸发源：电压5V，钙钛矿镀膜设备销售，10V，功率2.5KW，水冷电极1~4对 　　

石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?

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