PLD300A型激光镀膜设备哪家好 北京沈阳鹏程真空技术

PLD450型脉冲激光镀膜介绍

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技术指标：

极限真空度：≤6.7×10 Pa　　

恢复真空时间：从1×10 Pa抽至5×10 Pa≤20min　　

系统漏率：6. 7×10-7Pa.L/S；　　

真空室：Ф450球型真空室 ，　　

基片尺寸：可放置4″可实现公转换靶位描等基片加热可连续回转，转速5-60转/分基片与蒸发源之间距离300-350mm可调。　　

二维扫描机械平台，执行两自由度扫描，控制的内容主要有公转换靶、靶自转、样品自转、样品控温、激光束扫，

质量流量控制器1路　　

烘烤温度：150℃数显自动热偶控温（高温炉盘，PLD300A型激光镀膜设备哪家好，数显自动热偶控温可加热到800℃）

脉冲激光镀膜设备激光镀膜设备哪家好

PLD450型脉冲激光镀膜介绍

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主要用途：　　

用于制备超导薄膜、半导体薄膜、铁电薄膜、超硬薄膜等。适用于各大专院校、科研院所进行薄膜材料的科研与小批量制备。　　

系统组成:　　

主要由溅射真空室、旋转靶台、基片加热台、工作气路、抽气系统、安装机台、真空测量及电控系统等部分组成。　　

脉冲激光沉积介绍

脉冲激光沉积也被称为脉冲激光烧蚀（pulsed laser ablation，PLA），是一种利用激光对物体进行轰击，激光镀膜设备哪家好，然后将轰击出来的物质沉淀在不同的衬底上，得到沉淀或者薄膜的一种手段。

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