曝光时间过长或曝光不足：在紫外光照射下，吸收了光能量的光引发剂分解成游离基引发单体进行光聚合反应，形成不溶于稀碱的溶液的体型分子。要使每种干膜聚合效果较好，就必须有一个好的曝光量。从光能量的定义公式可知，总曝光量E是光强度I和曝光时间T的乘积。若光强度I不变，则曝光时间T就是直接影响曝光总量的重要因素。曝光不足时，由于聚合不彻底，在显影过程中，胶膜溶胀变软，导致线条不清晰甚至膜层脱落，造成膜与铜结合不良；若曝光过度，会造成显影困难，也会在电镀过程中产生起翘剥离，形成渗镀。所以，平面曝光显影，解决的工艺措施就是严格控制曝光时间，每种类型的干膜在起用时应按工艺要求进行测量。如采用瑞士顿21级光楔表，级差0.15，以控制6-9级为宜。
所谓显影点，发生在光阻曝光后以显影液显影的过程中，平面曝光显影报价，当所要去除的所有光阻区域都恰好去除时，这个作业点就是显影点。显影点的前后，受到显影设备速度、喷压、药液温度、药液浓度、光阻特性等影响。要获得良好显影效果，保证显影良好、分辨率恰当，除了要有良好曝光，一般都会将显影点设在设备长度50~80%的位置，以免显影过度或不足。
过去一些标牌的制作主要采用木材板、石板或水泥板等非金属材料板材制作，在板上印写文字、图案。随着技术的发展、塑料制品的增多，又逐步流行不锈钢标牌，随着金属制造业的发展，越来越多的单位使用金属板做标牌。金属板标牌用蚀刻的方法显出文字或图案，既可做成凸形也可以做也凹形，平面曝光显影厂，具有一定的立体感觉，而且又有金属光泽衬托，平面曝光显影加工，显得豪气、庄重。金属标牌的表面还可以进行着色处理，进一步凸现装饰的效果。
金属标牌的制作大多数是采用化学蚀刻法将文字蚀刻出来。蚀刻部分不能太光亮，要与金属基体板材形成对比反差，使具有一定的金属质感与艺术感。
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