科研实验专用氧化钽靶材Ta2O5磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
氧化钽（Ta2O5），白色粉末，不溶于水和酸，熔点：1800℃，密度8.2g/cm³。化学性质与氧化铌类似生产金属钽的原料；也用于电子工业。供拉钽酸锂单晶和制造高折射低色散特种光学玻璃用，化工中可作催化剂。
产品参数
中文名：五氧化二钽 分子式：Ta2O5
分子量： 441.89 密度：8.2g/cm3
熔点：1800℃
服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！
产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装
适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备
质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。
加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库
陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！
我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。
注意：高纯铟的熔点约为156℃，靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化！绑定背靶不影响靶材的正常使用！
建议：陶瓷脆性靶材、烧结靶材，高功率下溅射易碎，建议溅射功率不超过3W/cm2。