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- 发布时间
- 2021-01-03 11:13:56
真空镀膜技术优点
清洗过程简化:现有真空镀膜机PVD涂层镀膜工艺,多数均要求事先对工件进行严格清洗,既复杂又费事。然而,离子镀工艺自身就有一种离子轰击清洗作用,并且这一作用还一直延续于整个镀膜过程。清洗效果良好,能使镀层直接贴近基体,有效地增强了附着力,简化了大量的镀前清洗工作。
可镀材料广泛:离子镀由于是利用高能离子轰击工件表面,使大量的电能在工件表面转换成热能,从而促进了表层组织的扩散作用和化学反应。然而,整个工件,特别是工件心部并未受到高温的影响。因此这种镀膜工艺的应用范围较广,受到的局限性则较小。通常,各种金属、合金以及某些合成材料、绝缘材料、热敏材料和高熔点材料等均可镀复。即可在金属工件上镀非金属或金属,也可在非金属上镀金属或非金属,甚至可镀塑料、橡胶、石英、陶瓷等。
浅谈水电镀和真空电镀区别:真空电镀机适用范围较广,如ABS料、ABS PC料、PC料的产品。同时因其工艺流程复杂、环境、设备要求高,单价比水电镀低。现对其工艺流程简要介绍:产品表面清洁、去静电--〉喷底漆--〉烘烤底漆--〉真空镀膜--〉喷面漆--〉烘烤面漆--〉包装。水电镀一般适用于ABS料、ABS PC料的产品。主要工艺是将需电镀的产品放入化学电镀液中进行电镀。根据客户的不同需要,可镀成不同的颜色,与高光银色、亚银色、灰银色。因为电镀后的产品其导电性显著增强,对于某些需绝缘的部件怎么办?办法有两种:其一,在需绝缘的部位涂上绝缘油,该部位在电镀时就不会被电镀到,从而达到绝缘效果!当然,涂了绝缘油的部位会变黑,就不适宜作为外观面了。其二,在需电镀的部位用特殊的胶纸贴住,保护起来,同样达到绝缘的效果。
镀膜理论
镀膜控制穿过光学干涉机制的反射光和透射光。当两个光束沿着同步路径传输及其相位匹配时,波峰值的空间位置也匹配并将结合创建较大的总振幅。当光束为反相位(180°位移)时,其叠加会导致在所有峰值的消减效应,导致结合的振幅降低。这些效应被分别称为建设性和破坏性的干涉。
光的波长和入射角通常是的,折射率和层厚度则可以有所不同以优化性能。上述的任何更改将会影响镀膜内光线的路径长度,并将在光透射时改变相位值。这种效应可简单地通过单层增透膜例子说明。当光传输穿过系统时,在镀膜任一侧的两个接口指数更改处将出现反射。为了尽量减少反射,我们希望它们在个接口重组时,这两个反射部分具有180°的相位移。这个相位差异直接对应于aλ/2位移的正弦波,它可通过将层的光学厚度设置为λ/4获得良好实现。