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光学微电子净化工程之定义为将一定空间范围内之空气中的微尘粒子、有害空气、细菌等之污染物排除，并将室内之温湿度、洁净度、室内压力、气流速度与气流分布、噪音震动及照明、静电控制在某一需求范围内，而所给于特别设计之密闭空间。大部分净化厂房尤其电子工业用的洁净厂房都有严格的恒温、恒湿的要求，不仅对厂房内的温、湿度有严格的要求，而且对温度和相对湿度的波动范围也有严格的要求。洁净室系利用HEPA、ULPA过滤空气，其尘埃的收集率达99.97~99.99995%之多，因此经过此过滤器过滤的空气可说十分干净。然而洁净室内除了人以外，尚有机器等之发尘源，这些发生的尘埃一旦扩散，即无法保持洁净空间，因此必须利用气流将发生的尘埃迅速排出室外。

采用FFU系统，带ULPA(99.9995%，0.12μm)，无尘车间设计，出口风速为0.38m/s，口罩无尘车间，其满布率为25%，这样室内平均气流速度为0.095m/s，在各有关推荐或参考值的下限下。医1疗器械GMP车间：对非无菌植入性医2疗器械或使用前预期灭菌的医2疗器械，无尘车间设计公司，如果通过确认的产品清洁、包装过程，能将污染降低并保持一致的控制水平需要控制空气尘埃的微粒对工作对象的影响，所以内部通常都是保持一个正压的状态，合肥无尘车间，尤其是对于一些精密仪器的生产或者是电子化工业的生产等。

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