离子镀膜机 电弧离子镀膜机厂家 至成真空科技

真空磁控溅射镀膜机工艺,及人员技能选择

很多人听说过真空磁控溅射镀膜工艺，大概只知道它的做用就是镀膜，但是大家却不知道，它的镀膜原理以及流程，为什么它能镀出精美的膜，包括后期这方面的工作人员该如何选择，或者是规划自己后期的发展，各人认为，只有你对这个行业有详细的了解，这样你才能做出正确的选择。

首先给大家讲解一下真空磁控溅射镀膜机镀膜流程，让大家知道，那些漂亮的膜是怎么镀出来的。一般在在镀膜前，机器都要先抽真空，并且抽真空过程中要加热，加热的温度取决于你工件的材质3。当真空度达到高真空，一般在0.005Pa左右时，开始Ar离子轰击清洗，用电弧靶主弧轰击清洗，接着用用用电弧和磁控靶混合打底和用磁控靶打底，然后通入要镀的物质，后降温出炉就可以了，整个镀膜的过程就完成了，很多多人，觉的镀膜工艺很繁琐，技术含量很高。其实不然，只要你弄镀膜流程和镀膜过程的应该注意的细节，然后精力投入进去，其实还是非常好上手的。很过刚入门的新人，一腔热血，想要进入镀膜行业，想要学习技术，但是却没有了解他到底想要学习什么技术。是镀膜工艺技术，镀膜设备方面的技术，很多新人对此行业了解不深，把这两者混为一谈，只是这两者是有很大区别的，尤其是刚进入行业的新人，要切记及注意。

真空镀膜设备离子镀的类型及特点

离子镀是结合真空蒸镀和溅射镀两种技术而发展起来的沉积技术。在真空条件下，采用适当的方式使镀膜材料蒸发，利用气体放电使工作气体和被蒸发物质部分电离，在气体离子和被蒸发物质离子的轰击下，蒸发物质或其反应产物在基体上沉积成膜。离子镀的基本过程包括镀膜材料的蒸发、离子化、离子加速、离子轰击工件表面成膜。根据镀膜材料不同的蒸发方式和气体的离化方式，构成了不同类型的离子镀，下表是几种主要的离子镀。离子镀具有镀层与基体附着性能好、绕射性能好、可镀材质广、沉积速率快等优点。

表离子镀的种类及其特点

种类蒸发源离化方法工作环境特点用途

直流放电法电阻辉光放电dc:0.1kv～5kv惰性气体1pa，0.25ma/cm2结构简单，膜层结合力强，但镀件温升高，分散性差！耐热，润滑等镀件

弧光放电法电子束、灯丝弧光放电dc:100v高真空1.33x10-4pa离化率高，易制成反应膜，可在高真空下成膜，利于提高质量切削工具、金属装饰等镀件

空心阴极法空心阴极等离子体电子束dc:0v～200v惰性气体或反应气体离化率高，蒸发速度大，易获得高纯度膜层装饰、耐磨等镀件

调频激励法电阻、电子束射频电场13.56mhzdc:0.1kv～5kv惰性气体或反应气体离化率高，膜层结合力强，镀件温升低，但分散性差光学、半导体等镀件

电场蒸发法电子束二次电子dc:1kv～5kv真空不纯气体少，能形成较好的膜电子元件

多阴极法电阻、电子束热电子dc:0v～5kv惰性气体或反应气体低速电子离化效果好装饰、电子、精密机械等零件

聚焦离子束法电阻聚集离子束dc:0v～5kv惰性气体因离子聚束，膜层结合力强电子元件

活性反应法电子束二次电子dc:200v反应气体o2、n2、ch4、c2h4等金属与反应气体组合能制备多种倾倒物膜层电子、装饰、耐磨等镀件

光学真空镀膜机镀膜技术和装备

光学真空镀膜机给人感觉，遥不可及，但是现如今光学镀膜机在市场上使用非常广泛了，也得到了很多厂商的认可和喜爱。今天至成小编为大家讲解一下关于光学镀膜相关的知识。光学薄膜是现代光学和光电系统重要的组成部分，在光通信、光学显示、激光加工、激光核聚变等高科技及产业领域已经成为核心元器件，其技术突破常常成为现代光学及光电系统加速发展的主因。光学薄膜的技术性能和可靠性，直接影响到应用系统的性能、可靠性及成本。随着行业的不断发展，精密光学系统对光学薄膜的光谱控制能力和精度要求越来越高，而消费电子对光学薄膜器件的需求更强调超大的量产规模和普通大众的易用和舒适性。