氧化镓靶材Ga2O3磁控溅射靶材

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2021-08-04 11:19:34
产品详情
 科研实验专用氧化镓靶材Ga2O3磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料
产品介绍
      氧化镓(Ga2O3)别名是三氧化二镓,是一种宽禁带半导体,Eg=4.9eV;不溶于水,微溶于热酸或碱溶液,易溶于碱金属氢氧化物和稀无机酸;有α,β两种变体,α型为白色菱形六面体,熔点:1900℃(在600℃时转化为β型)。用作高纯分析试剂、用于电子工业半导体材料制备。它是一种透明的氧化物半导体材料,在光电子器件方面有广阔的应用前景 ,被用作于Ga基半导体材料的绝缘层,以及紫外线滤光片。它还可以用作O2化学探测器。
产品参数
中文名称:氧化镓
中文别名:三氧化二镓
英文名称:Gallium(Iii) Oxide (metals Basis) 
CAS号:12024-21-4
分子式:Ga2O3
分子量:189.46000
精确质量:187.85200
PSA:43.37000
外观与性状:白色靶材
密度:5.88g/cm3
熔点:1740ºC
折射率:1.92
稳定性:稳定。 与镁不相容。
储存条件:库房通风低温干燥
用作高纯分析试剂、用于电子工业半导体材料制备。 用作高纯分析试剂、半导体材料

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