箱式气氛炉 1200℃是常用高温气氛处理设备，核心用于需惰性 / 还原性 / 氧化性气氛的材料烧结、退火等工艺。
核心特性
温度上限 1200℃，控温精度通常 ±1℃~±3℃，满足多数中高温材料处理需求。
密封性能优异，可通入氮气、氩气、氢气等气体，隔绝空气避免材料氧化。
炉膛多为氧化铝陶瓷纤维或刚玉材质，保温性好且耐高温变形。
适用场景
材料领域：陶瓷、玻璃、金属粉末的烧结与改性。
科研实验：高校、研究所的材料成分分析与性能测试。
工业生产：电子元件、特种合金的退火、回火等精密处理。
关键选型要点
炉膛尺寸：根据处理工件大小选择，常见容积从几升到几十升。
气氛控制：确认是否支持多气氛切换、流量调节及压力监控功能。
安全配置：优先选择带气体泄漏报警、超温保护、防爆装置的型号。
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