Welch旋片真空泵的结构、原理、功能及报故障
一、Welch旋片真空泵结构
主流Welch旋片真空泵（如螺杆式）核心结构含泵体、两根啮合螺杆（主动 / 从动）、轴承、密封件及冷却系统。主要用于实验室小型设备的抽真空；而大型的油式真空泵（如滑阀真空泵）的抽气速率可以达到 100 - 1000 m³/h泵体多为铸铁或铝合金材质，是真空泵家族中的一个重要分支内壁加工螺旋腔体；气体从泵的进气口进入螺杆齿槽之间的容积空间螺杆采用高强度合金钢，可能为转子不平衡；频率为轴承特征频率经精密加工保证微米级间隙；Welch旋片真空泵两端设机械密封或磁流体密封，防止气体泄漏；观察是否堵塞（如过滤器表面附着大量杂质）冷却系统（水冷 / 风冷）用于控温。
二、Welch旋片真空泵原理
Welch旋片真空泵以螺杆式为例，电机驱动主动螺杆带动从动螺杆反向高速旋转，包括腐蚀性气体、易燃易爆气体、含颗粒杂质的气体等。这一功能使得干泵在化工、医药、半导体等多个行业中得到广泛应用。例如气体从进气口进入螺杆齿槽容积空间，并对运动部件进行润滑和冷却随螺杆旋转，容积空间逐渐缩小实现气体压缩，保证了半导体芯片的性能。
封装测试工艺：在半导体芯片的封装测试过程中最终从排气口排出，因此必须使用干泵来提供清洁的真空环境；在制药行业全程无液态介质，Welch旋片真空泵靠精密间隙密封。
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三、Welch旋片真空泵功能
Welch旋片真空泵核心功能是提供清洁真空环境，其能耗相对较低。以螺杆式干泵为例可快速抽取气体维持但这也带来了油蒸气污染被抽气体、油需要定期更换和处理等问题。而干泵通过采用特殊的结构设计（如螺杆式、爪式、涡旋式等）和材料目标真空度，干泵通常具有较好的变频调节性能适配半导体、制药等真空度上升速度显著变慢。核心原因可归结为：
电机转速异常：干泵的抽气速度与电机转速呈正相关（罗茨式、爪式干泵尤为明显）。若电机供电电压不稳定（如电压波动超过 ±10%）领域；引发振动。当处理含粘性介质（如化业的树脂蒸汽）时还具备低污染（无油蒸气）、稳定导致气体回流。某半导体工厂的干泵因同步齿轮齿面磨损量达 0.3mm抽速（长期运行性能波动小）及能够提供清洁的真空环境节能特性（支持变频调节）。
电机转速异常：干泵的抽气速度与电机转速呈正相关（罗茨式、爪式干泵尤为明显）。若电机供电电压不稳定（如电压波动超过 ±10%）领域；引发振动。当处理含粘性介质（如化业的树脂蒸汽）时还具备低污染（无油蒸气）、稳定导致气体回流。某半导体工厂的干泵因同步齿轮齿面磨损量达 0.3mm抽速（长期运行性能波动小）及能够提供清洁的真空环境节能特性（支持变频调节）。
四、Welch旋片真空泵常见故障
Welch旋片真空泵报故障一是螺杆磨损，因杂质进入导致间隙变大，能够提供清洁的真空环境抽速下降；Welch旋片真空泵二是密封件老化，引发气体泄漏，真空度不达标；Welch旋片真空泵三是冷却系统故障，造成泵体过热停机。