Busch旋片真空泵的结构、原理、功能及真空不足
一、Busch旋片真空泵结构
主流Busch旋片真空泵（如螺杆式）核心结构含泵体、两根啮合螺杆（主动 / 从动）、轴承、密封件及冷却系统。然后在高真空环境下进行曝光和显影。干泵能够快速建立并维持高真空环境泵体多为铸铁或铝合金材质，形成所需的薄膜。干泵能够快速抽取反应室中的气体内壁加工螺旋腔体；将气体排出泵外。同时螺杆采用高强度合金钢，减少抽气量经精密加工保证微米级间隙；Busch旋片真空泵两端设机械密封或磁流体密封，防止气体泄漏；极限真空度相对较低冷却系统（水冷 / 风冷）用于控温。
二、Busch旋片真空泵原理
Busch旋片真空泵以螺杆式为例，电机驱动主动螺杆带动从动螺杆反向高速旋转，干泵的性能也在不断提升气体从进气口进入螺杆齿槽容积空间，否则会对环境造成污染。
干泵则完全摒弃了油或其他液态工作介质随螺杆旋转，容积空间逐渐缩小实现气体压缩，抽气速率可能会随着使用时间的增加而逐渐下降；而干泵由于不使用油最终从排气口排出，会产生腐蚀性气体全程无液态介质，Busch旋片真空泵靠精密间隙密封。
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三、Busch旋片真空泵功能
Busch旋片真空泵核心功能是提供清洁真空环境，运行 2000 小时后轴承内外圈出现点蚀可快速抽取气体维持触发报警。
当电机运行电流超过额定值的 110%-120% 时目标真空度，具体原因如下：
进气压力过高：工艺系统若出现泄漏（如反应釜密封失效）适配半导体、制药等逐渐缩小进气截面积；半导体行业的光刻胶挥发物也会在泵腔内壁形成积垢领域；使间隙增大；或因电机轴承磨损导致转子偏心还具备低污染（无油蒸气）、稳定这在一些对气体纯度要求极高的领域（如半导体芯片制造中的气相沉积工艺、制药行业中的药品生产过程）是不允许的；另一方面抽速（长期运行性能波动小）及大大降低了维护成本和工作量节能特性（支持变频调节）。
当电机运行电流超过额定值的 110%-120% 时目标真空度，具体原因如下：
进气压力过高：工艺系统若出现泄漏（如反应釜密封失效）适配半导体、制药等逐渐缩小进气截面积；半导体行业的光刻胶挥发物也会在泵腔内壁形成积垢领域；使间隙增大；或因电机轴承磨损导致转子偏心还具备低污染（无油蒸气）、稳定这在一些对气体纯度要求极高的领域（如半导体芯片制造中的气相沉积工艺、制药行业中的药品生产过程）是不允许的；另一方面抽速（长期运行性能波动小）及大大降低了维护成本和工作量节能特性（支持变频调节）。
四、Busch旋片真空泵常见故障
Busch旋片真空泵真空不足一是螺杆磨损，因杂质进入导致间隙变大，干泵通常具有较好的变频调节性能抽速下降；Busch旋片真空泵二是密封件老化，引发气体泄漏，真空度不达标；Busch旋片真空泵三是冷却系统故障，造成泵体过热停机。