电子工业用六氟化硫化学式SF6，属于电子级特种绝缘刻蚀气体，经过多级低温精馏、催化脱酸、深度脱水、高精度过滤多重工艺精制，严格脱除空气、水分、氟化氢、可水解氟化物、金属杂质、颗粒物、碳氢化合物等痕量杂质，无色无味，化学性质稳定，电弧环境下分解可控。电子级六氟化硫绝缘性能优异，等离子体刻蚀均匀性好，杂质组分极低，能够精准参与半导体干法刻蚀工艺，不会在晶圆表面引入污染。广泛用于集成电路干法刻蚀、功率半导体制造、面板刻蚀制程、高纯腔体绝缘保护、半导体设备气密性检测等微电子领域。利用其稳定的等离子体特性，实现高精度沟槽刻蚀，保障芯片图形精度。
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