高纯柠檬酸（一水）——CMP后清洗液中的“温和力量”
在化学机械抛光（CMP）后清洗工序中，柠檬酸凭借其温和的络合能力和良好的水溶性，被广泛用于去除晶圆表面残留的金属氧化物颗粒和有机抛光液组分。山东安达化工电子级柠檬酸（一水）以食用级柠檬酸为起始原料，经重结晶和高纯水洗涤工艺处理，将其中金属杂质总量控制在5ppm以下，Cl⁻含量≤1ppm，SO₄²⁻≤5ppm，符合SEMI C5标准中关于低金属杂质等级的要求。
该产品在铜阻挡层CMP后清洗中的应用表现尤为突出。柠檬酸根离子能够与Cu²⁺形成稳定的络合物，有效防止铜离子在清洗过程中发生再沉积（Back-deposition），从而降低晶圆表面的颗粒缺陷密度。在12英寸晶圆厂的实际测试中，使用含山东安达化工电子级柠檬酸的清洗液后，晶圆表面＞0.16μm颗粒计数较使用普通工业级柠檬酸的对照组降低了约60%。
包装方面，产品采用双层高密度聚乙烯袋密封，外层辅以铝箔复合袋避光，每袋净重25kg。产品保质期为24个月，建议储存于15-25°C干燥环境中，避免高温导致结块。