光刻胶BL-301 负型聚酰亚胺

microchem 光刻胶SU-8 2000系列性环氧负性光刻胶:SU-8 2025,SU-8 2035,SU-8 2050,SU-8 2075，SU-8 2000是一种高对比度的环氧树脂基光刻胶，适用于微加工和其他微电子应用领域，需要厚、化学和热稳定的图像。SU-8 2000是SU-8的改进配方，多年来被MEMS生产厂家广泛使用。采用更快的干燥速度，更极性的溶剂体系，可改善涂层质量，提高工艺吞吐量。SU-8 2000有12种标准粘度可供选择。薄膜厚度0.5到>200微米,可以通过一个单一的涂层工艺实现。暴露的和随后的热交联部分的薄膜是不溶性的液体显影液。SU-8 2000具有良好的成像特性，能够产生非常高的展弦比结构。SU-8 2000在360纳米以上具有非常高的光学传输能力，这使得它非常适合在非常厚的薄膜中近垂直侧壁成像。SU-8 2000适合应用，它是成像，固化和留在设备上。