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发布时间:2026-01-20 10:43  点击:10次

 吉林省做化工设备的厂家,吉林省做石化设备的厂家,吉林做非标设备的企业化学气相淀积工艺利用气态的化学材料在硅片表面产生化学反应,并在硅片表面上淀积形成一层固体薄膜,如二氧化硅、各种硅玻璃、多晶硅、氮化硅、钨与硅化钨等。因反应压力的不同一般可分为:吉林省做化工设备的厂家,吉林省做石化设备的厂家,吉林做非标设备的企业常压化学气相淀积法、低压化学气相淀积法(相关设备有批量加工形式的炉管,也有单一硅片加工形式的设备)、亚大气压化学气相淀积法、等离子体增强型化学气相淀积法、高密度等离子体增强型化学气相淀积法。
    5 离子注入工艺。
    离子注入工艺是通过将选定的离子加速,射入硅片的特定区域而改变其电学特性的一种工艺。吉林省做化工设备的厂家,吉林省做石化设备的厂家,吉林做非标设备的企业一般可以分为大电流型、低能型、中低电流型、高能型。
    6 溅射工艺。

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    溅射工艺通过靶材来提供镀膜的金属材料,利用其重力作用,使靶材产生的金属晶粒掉落至硅片表面,吉林省做化工设备的厂家,吉林省做石化设备的厂家,吉林做非标设备的企业从而形成金属薄膜。
    7 刻蚀工艺。
    刻蚀工艺用于将形成在硅片表面的薄膜,吉林省做化工设备的厂家,吉林省做石化设备的厂家,吉林做非标设备的企业被全部或依照特定图形部分地去除至必要的厚度。一般可以分为湿法刻蚀和干法刻蚀。湿法刻蚀利用液体酸液或溶剂,将不要的薄膜去除。干法刻蚀利用带电粒子以及具有高度活性化学的中性原子和自由基的等离子体,将不要的薄膜去除。
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