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- 发布时间
- 2022-10-18 01:15:08
半导体XRD测试——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究,大功率XRD检测费用多少,兼顾重大技术应用的基础研究,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。
制作粉末衍射仪试片的技巧
粉末衍射仪要求样品试片具有一个十分平整的平面,大功率XRD检测测试,而且对平面中的晶粒的取向常常要求是完全无序的,不存在择优取向(在粘土分析中有时又要求制作定向的试片)。 制作合乎要求的衍射仪试片常用的方法
通常很细的样品粉末(手摸无颗粒感),如无显著的各相异性且在空气中又稳定,则可以用“压片法”来制作试片。先把衍射仪所附的制样框用胶纸固定在平滑的玻璃片上(如镜面玻璃,显微镜载玻片等),然后把样品粉末尽可能均匀地洒入(是用细筛子—360目筛入)制样框的窗口中,再用小抹刀的刀口轻轻剁紧,使粉末在窗孔内摊匀堆好,然后用小抹刀把粉末轻轻压紧,广东大功率XRD检测,用保险刀片(或载玻片的断口)把多余凸出的粉末削去,然后,小心地把制样框从玻璃平面上拿起,便能得到一个很平的样品粉末的平面。此法所需样品粉末量较多,约需0.4cm3。
“涂片法”所需的样品量少。把粉末撒在一片大小约 25×35×1mm3的显微镜载片上(撒粉的位置要相当于制样框窗孔位置),然后加上足够量的或酒精(假如样品在其中不溶解),使粉末成为薄层浆液状,均匀地涂布开来,粉末的量只需能够形成一个单颗粒层的厚度就可以,待蒸发后,粉末粘附在玻璃片上,可供衍射仪使用,若样品试片需要保存,可滴上一滴稀的胶粘剂。
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微区XRD
微区XRD可以测试某个区域的XRD谱图,但是测试区域需要大于等于0.5 mm,不能太小。另外测试角度范围默认是5-90 °,其他角度需要先和检测老师沟通后再做决定。比如需要测试块体样品(尺寸要求是长宽一般1-2 cm,厚度不超过5 mm)上面某一个或一些小区域的XRD,就可以用微区XRD来测试。
掠入射XRD
掠入射XRD是专门用来测试薄膜样品的手段。测试光是平行光,相对于常规的衍射光来说能量较小,因此掠入射测试XRD的谱图峰强相对较弱。但是平行光可以更好的关注薄膜表面的信息,也不容易测到基底,因此掠入射XRD专门用于测试薄膜样品。薄膜尺寸没有特别要求,但是需要测试面平整光洁,不要有遮挡物,这样测试结果才真实可信。
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半导体XRD测试——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究,兼顾重大技术应用的基础研究,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。
自从伦琴于1895年发现X射线以来,人们对X射线的应用开展了深入的研究。X射线衍射技术是利用X射线在晶体、非晶体中衍射与散射效应,进行物相分析、结构类型和不完整性分析的技术,可广泛应用于物理学、化学、分子物理学、医学、金属学、材料学、高分子科学、工程技术学、地质学、矿物学等学科领域,是目前应用广泛的一项技术,大功率XRD检测哪里可以做,在材料现代分析方法中占有重要的地位。XRD主要应用于定性相分析、定量相分析、晶粒大小的测定、材料的宏观和微观应力测定、织构(择优取向)分析、取向度和晶体及多晶体的定向测量。
本文主要介绍利用XRD衍射仪测量晶体衍射峰强度,从而了解所镀膜层随温度变化晶体生长取向的变化趋势,以及根据晶体对应密勒指数下的衍射峰的半高宽计算晶粒大小,进而对薄膜材料的制备条件有更为深入的了解。
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