半导体薄膜测试机构 吉林XRD掠入射（GIXRD）检测

XRD掠入射（GIXRD）检测单晶XRD测试——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

X射线分析的新发展

金属X射线分析由于设备和技术的普及已逐步变成金属研究和材料测试的常规方法。早期多用照相法，这种方法费时较长，强度测量的度低。50年代初问世的计数器衍射仪法具有快速、强度测量准确，并可配备计算机控制等优点，已经得到广泛的应用。但使用单色器的照相法在微量样品和探索未知新相的分析中仍有自己的特色。从70年代以来，随着高强度X射线源（包括超高强度的旋转阳极X射线发生器、电子同步加速辐射，高压脉冲X射线源）和高灵敏度探测器的出现以及电子计算机分析的应用，使金属 X射线学获得新的推动力。这些新技术的结合，不仅大大加快分析速度，提高精度，而且可以进行瞬时的动态观察以及对更为微弱或精细效应的研究。

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XRD因其的优点，广泛应用于医学、工业和研究领域中，XRD也可用于小角度散射、微晶粒尺寸和X射线微观应力的测定，这使得XRD具有更广泛的应用。使用中定性分析需完善PDF卡片，衍射仪要求分辨率高；定量分析中要尽量减少择优取向，因此XRD的联用技术具有很大的开发潜力。如何将XRD与其它技术进行联用，更好的利用其衍射数据进行分析仍是一个热点问题。

2.为什么XRD测试要求薄膜（块体）样品尺寸要合适？

因为放置薄膜（块体）样品的样品台尺寸是固定的，用橡皮泥来固定样品，样品太大放不进去，XRD掠入射（GIXRD）检测分析，样品太小不好固定。

3.为什么XRD数据的峰强度较低，甚至没有明显的衍射峰？

样品的衍射峰强度跟样品本身的结晶度有关，其次跟样品量以及仪器的功率都有关系。如果样品量太少的话得到的峰强度就一定会很低，这时候可能增加量来排除是不是样品数量对测试数据产生影响。

4.XRD研究的是材料的体相还是表面相？

因为XRD采用单色X射线为衍射源，XRD掠入射（GIXRD）检测机构，一般情况下可以穿透样品从而验证其内部结构与特征，因此XRD研究的是材料的体相结构信息。

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三结构分析的过程 X射线晶体结构分析的过程，从单晶培养开始，吉林XRD掠入射（GIXRD）检测，到晶体的挑选与安置，继而使用射仪测量衍射数据，再利用各种结构分析与数据拟合方法，进行晶体结构解析与结构精修，后得到各种晶体结构的几何数据与结构图形等结果。

利用目前的仪器设备和计算机，一个常规小分子化合物的射线晶体结构分析全过程可以在几十分钟到几个小时内完成。下图概括了晶体结构分析的过程，左边的方框列出各个主要步骤，右边则列出每个步骤可以获得的主要结果或数据。

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