半导体薄膜测试机构 黑龙江XRD晶粒尺寸检测

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2023-05-06 13:21:47
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XRD晶粒尺寸检测XRD残余应力检测——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究,兼顾重大技术应用的基础研究,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。

sin2ψ法公式是基于布拉格定律和弹性理论推导出来的,弹性理论所涉及的对象被假定为均匀、连续、各向同性的介质。对于多晶金属材料来说,只有晶粒细小,没有织构,才近似满足这样的假定。

因为,衍射用的X射线对被测材料的穿透能力极低,大多在几微米或十几微米的深度。因此,可以认为垂直于材料表面方向的应力分量均为零。只有在特殊加工(如强力的、大切削量的磨削)的条件下,致使主应力平面偏离试样表面,XRD晶粒尺寸检测哪家好,才可能出现τ13≠0,XRD晶粒尺寸检测机构,τ23≠0的情况。通常出现±ψ分叉情况,拟合曲线往往不具备椭圆属性,其实质应该是测角仪±ψ机构的系统误差造成的,因此无需过分强调椭圆拟合的必要性。

综上所述,X射线衍射残余应力测定的实际可操作过程就是选择若干ψ角(或若干对±ψ 角)分别测定衍射角2θφψ,然后进行计算。关于如何安排ψ平面和2θ平面的空间几何关系、如何获取衍射曲线、如何进行计算等方面,学者们研究出了许多方法。



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X射线衍射技术(XRD)在建筑材料检测中的应用

样品要求X射线衍射技术适用于多种类型产品的检测,送检样品可为粉末状、块状、薄膜、镀膜及其它形状。样品种类不同,XRD晶粒尺寸检测服务,具体要求也有所区别:

①粉末样品需要量约为2g以上(视其密度和衍射能力而定),送检粉末样品需预先干燥并研磨至大于200目;

②块状和薄膜样品要求宽度不小于1.5cm、厚度不大于0.5cm近似平面试样;

③对于测量金属样品的微观应力(晶格畸变),测量残余奥氏体,要求制备成金相样品,并进行普通抛光或电解抛光,消除表面应变层;

④若样品在空气中不稳定,会吸湿、风化、分解,则需采取保护隔离措施,黑龙江XRD晶粒尺寸检测,若试样、、有毒,则应采取相应的防护措施。

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ECV又名扩散浓度测试仪,结深测试仪等,即电化学CV法测扩散后的载流子浓度分布。电化学ECV可以用于太阳能电池、LED等产业,是化合物半导体材料研究或开发的主要工具之一。电化学ECV主要用于半导体材料的研究及开发,其原理是使用电化学电容-电压法来测量半导体材料的掺杂浓度分布。电化学ECV(CV-Profiler, C-V Profiler)也是分析或发展半导体光-电化学湿法蚀刻(PEC Etching)很好的选择。

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