重庆氮化铝真空镀膜 半导体材料 氮化铝真空镀膜加工平台

氮化铝真空镀膜——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，重庆氮化铝真空镀膜，以及行业应用技术开发。

镀膜目的是防止指纹及油污不易粘附且轻易擦除。表面顺滑，手感舒适，不易刮花。增加玻璃表面耐磨性。AF ---- Anti-fingerprint，中文为抗指纹。一般SiO2 AF材料，一般采用真空蒸发镀膜法。

原理：AF防污防指纹玻璃是根据荷叶原理，在玻璃外表面涂制一层纳米化学材料，将玻璃表面张力降至低，灰尘与玻璃表面接触面积减少90%，使其具有较强的疏水、抗油污、抗指纹能力；使视屏玻璃面板长期保持着光洁亮丽的效果。

欢迎来电咨询半导体研究所了解更多氮化铝真空镀膜哟~

氮化铝真空镀膜——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

真空镀膜机维护是非常重要的一个话题，采购商采购真空镀膜机回去，生产商胜场设备一般都会配备机器维护保养手册，对于工艺要求比较高机器，会安排员工驻场服务，因为可以看出，氮化铝真空镀膜技术，不管是采购方还是生产方对真空镀膜机维护都非常重视。

当粗抽泵(滑阀泵，旋片泵)连续工作一个月(雨季减半)，需更换新油。

方法是：拧开放油螺栓，放掉旧油，再将泵启动数秒，使泵内的旧油*排放出来。拧回放油螺栓，加入新油至额定量(油视镜观察)。连续使用半年以上，换油时应将油盖打开，用布擦干净箱内污垢。

真空镀膜设备每完成200个镀膜程序以上，氮化铝真空镀膜加工，应清洁工作室一次。

方法是：用(NaOH)饱和溶液反复擦洗真空室内壁，( 注意人体皮肤不可以直接接触溶液，以免灼伤)目的是使镀上去的膜料铝(AL)与NaOH发生反应，反应后膜层脱落，并释放出氢气。再用清水清洗真空室和用布沾清洗精抽阀内的污垢。

以上是真空镀膜机使用后常见的几种维护方法，机器日常维护少不了，大家一定要掌握好维护技巧，提高公司产能和降低成本。

欢迎来电咨询半导体研究所了解更多氮化铝真空镀膜哟~

氮化铝真空镀膜——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，氮化铝真空镀膜加工平台，兼顾重大技术应用的基础研究，立足于广东省经济社会发展的实际需要，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。

磁控溅射真空镀膜机镀制薄膜，均匀性是一项重要指标，因此研究影响磁控溅射均匀性的影响因素，能更好的实现磁控溅射均匀镀膜。简单的说磁控溅射就是在正交的电磁场中，闭合的磁场束缚电子围绕靶面做螺旋运动，在运动过程中不断撞击工作气体气电离出大量的离子，离子在电场作用下加速轰击靶材，溅射出靶原子离子（或分子）沉积在基片上形成薄膜。所以要实现均匀的镀膜，就需要均匀的溅射出靶原子离子（或分子），这就要求轰击靶材的离子是均匀轰击的。由于离子是在电场作用下加速轰击靶材，所以要求电场均匀。而离子来源于闭合的磁场束缚的电子在运动中不断撞击形成，这就要求磁场均匀和气分布均匀。但是实际的磁控溅射装置中，这些因素都是很难完全的均匀，这就有必要研究他们不均匀对成膜均匀性的影响。实际上磁场的均匀性和工作气体的均匀性是影响成膜均匀性的主要因素。磁场大的位置膜厚，反之膜薄，磁场方向也是影响均匀性的重要因素。气压方面，在一定气压条件下，气压大的位置膜厚，反之膜薄。

欢迎来电咨询半导体研究所了解更多氮化铝真空镀膜哟~

重庆氮化铝真空镀膜-半导体材料-氮化铝真空镀膜加工平台由广东省科学院半导体研究所提供。广东省科学院半导体研究所是一家从事“深硅刻蚀,真空镀膜,磁控溅射,材料刻蚀,紫外光刻”的公司。自成立以来，我们坚持以“诚信为本，稳健经营”的方针，勇于参与市场的良性竞争，使“半导体”品牌拥有良好口碑。我们坚持“服务至上，用户至上”的原则，使半导体研究所在电子、电工产品加工中赢得了客户的信任，树立了良好的企业形象。 特别说明：本信息的图片和资料仅供参考，欢迎联系我们索取准确的资料，谢谢！