半自动快速退火炉

快速退火炉

快速退火炉工艺用途： 

离子注入后快速退火； 

 欧姆接触快速合金；硅化物合金退火； 

 氧化物生长； • 其它快速热处理工艺。

 同一般管式高温炉的比较：  一般管式高温炉只能设定一个工艺条件（即一个温度条件）；工艺周期长，使用不够灵活；须24小时加电恒温，能耗较高，不适用于生产。

半自动快速退火炉可以设定多个工艺条件（即多种温度条件）；工艺时间短，使用非常灵活；能耗低；

同一台设备既可用于生产，也可用作科研，且任何科研工艺条件不会对生产工艺造成影响。