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- 2024-09-04 09:05:20
仪器为非接触，非损伤测试;主要利用涡电流测试原理，非接触测试半导体材料，石墨烯，透明导电膜，碳纳米管，金属等材料的电学特性。
详细介绍
1) 方阻探头：
由于电阻率范围较大，需要采用两中规格探头，如下：
中量程（上下探头，0.02-1.5Ω*cm，厚度约700um）
高量程（上下探头，1.0-100Ω*cm，厚度约700um）
2) PN探头：
测试样片PN类型
3) 多点测试平台
由于方阻探头采用上下两个探头，因此采用探头固定，晶圆平移及旋转的方式，来进行多点的面测试
4) 厚度探头（选配，可采用手动输入已知厚度的方式）
量程（200um - 1000um），主要用于将方阻探头数据转换为电阻率
5) OCR晶圆ID识别（选配）
自动识别Wafer编码信息
二、主要技术参数参数 | 探头 | 说明 | |
组成 | 方阻探头（中） （高） | 方法：非接触式涡流法（两组） 范围：0.1 - 100Ω*cm（Tk≈750um） 重复性：<1% 示值误差：<±3% 单点测量时间：< 1秒 去边：7mm | 型号：ER-PN-1000 (九域半导体科技) |
PN探头 | 方法：非接触式SPV法 单点测量时间：< 1秒 误判断 < 0.02% | ||
测试平台 | 软件控制启动，自动移动至探头待测位置，设备自动测量 | ||
厚度探头 (选配） | 方法：电容法 范围：200um - 1000um 重复性： <1% 示值误差：<±5um 单点测量时间：< 1秒 | ||
OCR （选配） | 厂商：美国 COGNEX 型号：IN-SIGHT 1740系列晶圆读码器 | ||
主机 | DELL（windows 10）+23寸显示屏 专用数据分析软件（记录、质控、Mapping） 可接入MES系统 | ||
测量过程 | 1、 放置Wafer至样品台 2、 软件设置测量点位 3、软件控制启动，自动移动至探头待测位置，设备自动测量 4、数据（包括PN 和 方阻、厚度、电阻率）、记录、质控、输出文件等 5、根据客户需求可定制MES系统 | ||
Wafer信息 | 尺寸：4"-12" 厚度：典型范围：200um-1000um | ||
碎片率 | <1/10000（有暗裂等机台外部因素引起的碎片除外） | ||
月平均时间 | 平均时间>685H（30天计算） | ||
额定功率 | 36W（数据分析模组） + 250W(电脑） | ||
产能 | 每片晶片测试37个点，用时60s（不包括换片操作时间） | ||
环境温度 | 23 ±5°C | ||
电源要求 | 额定电压（220±22）VAC 频率（50±1）Hz | ||
提供标样 | 标准片：1片（4寸），电阻率范围1Ω*cm - 10Ω*cm | ||
验收判定 | n 测试条件：设备正常运行后，不低于10片的Wafer进行测试 n 设备性能：满足上述量程内重复性及准确性标准 | ||
三、 软件功能
3.1系统预装正版Windows 10专业版操作系统
3.2设备安装自主产权测试应用软件
3.3测试方块电阻，电导，电阻率（须输入厚度数据）
3.4软件具备SPC统计功能
3.5可输入并保存设备编号，批次号，样品号，操作员号
3.6可生成PDF版测试报告，报告包含SPC统计数据以及扫描图
3.7可调用/新建测试菜单
3.8用户可设定测试上限，下限值
3.9可记录样品测试开始时间，结束时间
3.10所有测试信息至少保留1个月以上
四、仪器使用环境
l 环境温度：23 ±5°C
l 环境湿度：（65±20）%RH
l 电源要求：额定电压（220±22）VAC 频率（50±1）Hz
五、安装与验收
1) 物流运输；
2) 仪器至甲方后，乙方在得到甲方通知后（最迟甲方签收仪器后5个工作日），，乙方只收取硬件成本费用；
4) 乙方免费协助甲方将仪器数据对接至甲方MES系统，若需增加硬件则无需甲方承担费用。
七、质保期
本仪器，乙方提供自验收之日起1年质保；
八、发货备件清单
序号 | 名称 | 数量 |
1 | 测试仪 | 1台 |
2 | 电源线 | 1条 |
3 | 电脑(Windows正版、数据GHOST备份) | 1台 |
4 | 通讯线 | 1条 |
5 | Windows 10专业版操作系统 | 1 |
6 | 专用测试软件 | 1 |
7 | 说明书 | 1本 |
8 | 出厂合格证 | 1个 |