维意真空PE-CVD等离子增强化学气相沉积镀膜机

PECVD系统就是为了使传统的化学气象沉积（CVD）反应温度降低，在普通CVD装置的前端加入RF射频感应装置将反应气体电离，形成等离子体，利用等离子体的活性来促进反应，所以这个系统称为增强型化学气相沉积系统（PECVD）。

该型号PECVD为单温区系列最新款，综合了国内大多数厂家的管式PECVD系统的优点，成膜质量好，针孔较少，不易龟裂。而且控制部分采用了维意自主研发的实验电炉AIO全自动智能控制系统，使得操作更加简便，功能更加强大。

主要特点：

1.  AIO控制系统——加热控制、等离子射频控制、气体流量控制、真空系统控

制集中于一个7英寸触摸屏进行统一集中调节和操控，协

调控制；

2. 管内压力自动平衡——管内压力实时监测，自动平衡管内压力。

3. 智能气路通断——每路气体均可定时通断，省时省力；

4. 射频功率和开关定时控制——预先设定好功率的大小和打开与关闭的时间，

自动运行；

5.  炉膛移动速度可调——根据实验要求，用户可设定炉膛左右移动的速度可

距离；

6. 整机结构融为一体——移动方便，避免分散组装的困扰。