半自动GAO精度MicroLine系列光学测量仪 重复性好

MicroLine-300是一款桌上型半自动CD测量系统。

主要技术参数：

◆    测量范围(XYZ)：标准：200×200×25mm；可选：300x300x25
◆    视场内测量精度：10nm(100X 镜头)；Z轴聚焦范围：25 mm
◆    视场内测量范围：0.5um~400um；
◆    视场内测量重复性(100x 物镜)：  晶圆上<0.010um(1δ)； 
                                                    掩模板上0.005um(1δ)；   

◆    承重：2kg

◆    标配镜头10x，可选镜头：5X, 20X, 50X, 100X 

MicroLine 系列 主要用于测量半导体、MEMS 晶圆、光刻掩模板等尺寸和涂覆物(多层套刻、圆、对接误差等)量测。
MicroLine 临界尺寸测量系统设计应用于半导体和MEMS晶圆以及光掩模CD量测。Microline 系列可自动测量线宽，迭置重合，和其他关键尺寸。

MicroLine 装备有高性能光学显微镜，高精度运动平台，可测量0.5 微米到400 微米大小的产品，测量精度和重复性在10nm （1  σ ，100倍物镜）。

View 软件、硬件优DIAN及应用领域

一，软件

1，  VMS

二，关键技术

1，  软件

2，  硬件

三，典型应用

四，总结