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光学薄膜的定义

由薄的分层介质构成的，通过界面传播光束一类光学介质材料，光学薄膜的应用始于20世纪30年代，光学薄膜已经广泛用于光学和光电子技术领域，制造各种光学仪器。制备条要求件高而精。

光学薄膜的定义是：涉及光在传播路径过程中，附着在光学器件表面的厚度薄而均匀的介质膜层，通过分层介质膜层时的反射、透(折)射和偏振等特性，以达到我们想要的在某一或是多个波段范围内的光的全部透过或光的全部反射或偏振分离等各特殊形态的光。

光学薄膜在我们的生活中无处不在，从精密及光学设备、显示器设备到日常生活中的光学薄膜应用;比方说，平时戴的眼镜、数码相机、各式家电用品，或者是防伪技术，皆能被称之为光学薄膜技术应用之延伸。倘若没有光学薄膜技术作为发展基础，近代光电、通讯或是镭射技术将无法有所进展，这也显示出光学薄膜技术研究发展的重要性。

光学薄膜系指在光学元件或独立基板上，制镀上或涂布一层或多层介电质膜或金属膜或这两类膜的组合，以改变光波之传递特性，包括光的透射、反射、吸收、散射、偏振及相位改变。故经由适当设计可以调变不同波段元件表面之穿透率及反射率，亦可以使不同偏振平面的光具有不同的特性。

一般来说，光学薄膜的生产方式主要分为干法和湿法的生产工艺。所谓的干式就是没有液体出现在整个加工过程中，例如真空蒸镀是在一真空环境中，以电能加热固体原物料，经升华成气体后附着在一个固体基材的表面上，完成涂布加工。日常生活中所看到装饰用的金色、银色或具金属质感的包装膜，就是以干式涂布方式制造的产品。但是在实际量产的考虑下，干式涂布运用的范围小于湿式涂布。湿式涂布一般的做法是把具有各种功能的成分混合成液态涂料，以不同的加工方式涂布在基材上，然后使液态涂料干燥固化做成产品。

多功能镀膜设备及镀膜方法与流程

现在，真空镀膜机是用于外表处理PVD膜层的专用设备，包含真空磁控溅射镀膜机、真空蒸腾镀膜机、真空多弧离子镀膜机等，真空磁控溅射镀膜机可在低温状态下进行非金属资料进行镀膜，真空蒸腾镀膜机和真空多弧离子镀膜机归于高温镀膜，适用于金属资料镀膜。

每种镀膜机都有各自特色和使用范围约束，如需镀制多种不同膜层以及进行金属和非金属资料的镀膜，需求置办上述多种真空镀膜机，存在设备出资大的缺陷。

为了处理上述问题，供给一种多功能镀膜设备及镀膜办法。手套箱蒸镀一体机，本体系由真空镀膜体系和手套箱体系集成而成，可在高真空蒸镀腔室中完结薄膜蒸镀，并在手套箱高纯惰性气体空气下进行样品的寄存、制备以及蒸镀后样品的检测。首要用于太阳能电池钙钛矿、OLED和PLED、半导体制备等试验研讨与使用。

蒸腾镀膜与手套箱组合，完成蒸镀、封装、测验等工艺全封闭制造，使整个薄膜成长和器材制备进程高度集成在一个完好的可控环境空气的体系中，消除有机大面积电路制备进程中大气环境中不稳定要素影响，保证了、大面积有机光电器材和电路的制备。

什么是光学镀膜：

光学镀膜是指在光学零件表面上镀上一层(或多层)金属(或介质)薄膜的工艺过程。在光学零件表面镀膜的目的是为了达到减少或增加光的反射、分束、分色、滤光、偏振等要求。常用的镀膜法有真空镀膜(物理镀膜的一种)和化学镀膜。

光学镀膜原理：真空镀膜真空镀膜：真空镀膜主要是指需要在更高真空下进行的涂料，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等多种涂料，所以。蒸发和溅射有两种主要类型。将被镀材料制成基材，将电镀材料用作靶材或药材。衬底处于与靶相同的真空中。

蒸发涂层通常是加热目标，以使表面组分以自由基或离子的形式蒸发，并通过成膜方法（散射岛结构-梯形结构-层状生长）沉积在基材的表面上，薄膜。

对于溅射状涂层，很容易理解目标材料是用电子或高能激光器轰击的，表面组分以自由基或离子的形式溅射，后沉积在基底表面上终形成一部薄膜。

常见的光学镀膜材料有以下几种：

1、二氧化硅材料特点：无色透明晶体，熔点高，硬度大，化学稳定性好。纯度高，用其制备高质量Si02镀膜，蒸发状态好，不出现崩点。按使用要求分为紫外、红外及可见光用。

2、氧化锆材料特点白色重质结晶态，具有高的折射率和耐高温性能，化学性质稳定，纯度高，用其制备高质量氧化锆镀膜，不出崩点。