旋涂技术作为半导体、光学及柔性电子等领域制备均匀聚合物薄膜的核心工艺，其最终膜厚对加工参数极为敏感。日本《聚合物杂志》最新研究系统探讨了旋涂加速度与聚合物溶液浓度对膜厚的影响机制，发现存在一个关键的加速度阈值，低于该阈值时，膜厚会因“加速效应”显著偏离常规趋势。
研究团队利用日本东索公司的不同分子量聚苯乙烯（PS）与和光纯药提供的甲苯溶剂，结合三菱材料提供的硅片，在东京大学等机构的标准实验环境下进行了详尽测试。实验表明，当初始加速度低于临界值时，溶剂在加速初期铺展不足，导致残留膜层增厚。这种现象在高转速、低浓度、低分子量及快速溶剂挥发条件下尤为显著，此时离心减薄作用被抑制，蒸发过程主导了膜厚演变。
针对聚合物溶液特有的非牛顿流体行为，研究指出随着浓度或分子量增加，高分子链缠结加剧，溶液粘度呈非线性激增，阻碍了流体动力学减薄并改变了蒸发曲线。为此，研究团队开发了改进的数学模型，引入了随时间变化的粘度与浓度参数，成功复现了实验中的非线性特征与过渡阈值，为理解旋涂成膜机理提供了深层理论支撑。
对于中国从事柔性显示、钙钛矿太阳能电池及可穿戴传感器研发的企业而言，这一发现极具参考价值。在追求高精度薄膜制备时，不能仅关注最终转速，更需严格控制加速阶段的参数，特别是在高挥发溶剂环境下，优化加速曲线是确保器件性能一致性与良率的关键所在。