电子级甲基异丁基甲酮（MIBK）——半导体湿法刻蚀中的“常规选项”
甲基异丁基甲酮（MIBK）在半导体制造中是一种较为常见的溶剂，主要用于光刻胶稀释、硅片表面有机沾污的去除以及在MEMS器件制造中的牺牲层光刻胶溶解。其适中的挥发速率和对多种聚合物的良好溶解性使其成为湿法工艺中的“常规选项”。山东安达化工电子级MIBK的纯度≥99.5%，水分≤0.03%，酸度（以乙酸计）≤0.005%，不挥发物≤5ppm。
在MEMS器件的牺牲层释放工艺中，MIBK用于溶解光刻胶牺牲层，释放可动结构。该应用对溶剂的纯度和颗粒物含量要求较高——残留颗粒可能导致微悬臂梁结构的黏附失效。山东安达化工的MIBK产品经过三级过滤（1μm→0.45μm→0.2μm），在千级洁净室条件下灌装，颗粒物（≥0.5μm）≤50个/mL。
在产品储存方面，MIBK需避光存放以防止过氧化物生成。山东安达化工在不锈钢桶包装内充填高纯氮气并添加微量（≤10ppm）的BHT稳定剂，有效延长产品安全存储期限。客户有特殊稳定剂添加要求时，可提前与销售技术人员沟通。