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- 2022-12-01 10:04:01
单晶XRD检测半导体XRD检测——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一，主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究，兼顾重大技术应用的基础研究，从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究，以及行业应用技术开发。
另外，也可以利用谢乐公式计算：
谢乐公式的应用方法Dc = 0.89λ /（B cos θ）（λ为X 射线波长， B为衍射峰 半高宽， θ 为衍射角）双线法（Williams-Hall）测定金属晶体中的微观应力。晶块尺寸小于0.1μm，且有不均匀应变时衍射线宽化。可用谢乐方程或Hall法作定量计算。谢乐方程的假设是试样中没有晶体结构的不完整引起的宽化，则衍射线的宽化只是由晶块尺寸造成的，而且晶块尺寸是均匀的。需注意，晶粒大于100纳米以上，用谢乐公式不太准确，因为其半高宽的原因。准确的是在40nm左右，但是，低于100n都可以谢乐公式来算。另外，谢乐公式只适合球形粒子。
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XRD小角衍射与普通XRD的区别
一、指代不同
1、小角衍射：利用电子显微镜中聚焦的电子束照射 样品，电子在原子的静电场作用下发生散射。
2、XRD：通过对材料进行X射线衍射，分析其衍射图谱，获得材料的成分、材料内部原子或分子的结构或形态等信息的研究手段。
二、特点不同
1、小角衍射：消除反射、折射 和二次散射后，经放大得到试验的高分散衍射。
2、XRD：用于确定晶体结构。其中晶体结构导致入射X射线束衍射到许多特定方向。 通过测量这些衍射光束的角度和强度，单晶XRD检测报告，晶体学家可以产生晶体内电子密度的三维图像。 根据该电子密度，单晶XRD检测平台，可以确定晶体中原子的平均位置，以及它们的化学键和各种其他信息。
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常见的单晶生长方法
1.溶剂缓慢挥发法
挥发化合物的近饱和溶液
干净光滑的器皿，但是全新的玻璃仪器效果往往也不好
合适的溶剂：沸点适中，不能太高或太低，60 ~ 90 度较合适。可以用不良溶剂和良溶剂的混合溶剂溶解化合物 (不良与良溶剂必须互溶，单晶XRD检测费用多少，且沸点要高于良溶剂。如，里可加适量水)，以避免在溶剂体积特别小时才析出晶体。
过滤：注意避免将滤纸上的纤维带入滤液。
封口、挥发：可用保鲜膜封好口，台湾单晶XRD检测，用很细的针戳孔，通过孔的数量来控制挥发速度。
清洁稳定的环境
注意：缓慢挥发，不能让溶剂完全挥发。
常用溶剂：、乙醇、、-水及 CH2Cl2-正己烷等。
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