半导体薄膜测试机构 XRD晶粒尺寸检测报告

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XRD晶粒尺寸检测XRD残余应力检测——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究,兼顾重大技术应用的基础研究,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。

1、简介

X射线测试技术广泛用于各种薄膜材料的表征。薄膜材料不同于普通的粉末XRD表征,存在一定的限制和薄膜的特性。例如,当薄膜具有强烈的择优取向时,只有特定晶面的衍射能被观察到,这也是为什么薄膜的测试表征比普通粉末表征难的原因。本文将综述X射线衍射技术用于薄膜的测试。

2、为什么薄膜材料要使用X射线来表征?

2.1、X射线分析的特点

随着先进薄膜材料制备技术的发展,广西壮族自治XRD晶粒尺寸检测,用于表征薄膜材料的分析技术的水平和内容变得更加复杂和多样化。这其中X射线用于表征薄膜的技术有很大的发展。

利用X射线来表征材料有很长的历史。在对材料的晶体结构进行测试方面,X射线衍射技术是非常成功的。和电子束衍射相比,X射线衍射方法有以下特点:

l 非破坏性的,XRD晶粒尺寸检测报告,并且无需特别的制样方法。

l 能够在特殊环境和常规环境下进行测试,例如高温高压下测试。

l 能够获得材料的平均结构信息,测试范围较广从nm级到cm级都可以表征。

l 对有机材料的破坏性也较低。

l 通过控制X射线的角度能够改变分析的材料的深度。

l 可以表征埋层材料的界面结构。



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广角XRD和小角XRD的区别

XRD是X射线衍射仪的简称。其基本原理是:当X射线照射所测物质(晶体),相应晶面会产生衍射强度。随着发射X射线的转轴移动,XRD晶粒尺寸检测价格,不同角度的不同晶面会被完全扫描出来。从而根据布拉格方程2d sinθ=nλ,呈现出图谱。广角XRD一般指3°~80°,甚至是更高的度数,一般用来判断某种材料的物相,即是什么物质。而小角XRD一般是指0°~3°的测试范围,在该范围内对应的晶面一般是层间,即(00X)晶面,一般用来比较改性物质前后该晶面的层间距变化。

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小角xrd表征什么,大角xrd又表征什么





小角XRD应该是指小角X射线散射吧(SAXS)一般的2θlt;6度,与我们通常所说的广角XRD相比,它可能更多的用于膜或者是孔的测试,它有专门的仪器测试,不是小角度的广角衍射。常用广角XRD是晶体的晶格常数不同因此会出现不同的衍射峰,根据不同的衍射峰判断物相的成分,一般的情况下晶格常数小于2 nm 时特征峰的2Theta值大于5度时,广角XRD基本可以满足了。

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