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- 发布时间
- 2020-02-18 15:27:41
双靶磁控溅射镀膜仪
产品特点
1、此款镀膜仪配置有两个靶枪：一个靶枪配套的是射频电源，用于非导电靶材的溅射镀膜；一个靶枪配套的是直流电源，用于导电材料的溅射镀膜
2、该镀膜仪可以制备多种不同材料的薄膜，应用非常广泛。
3、该镀膜仪体积较小，且配备有触摸屏控制面板，操作方便。
以上就是为大家介绍的全部内容，希望对大家有所帮助。如果您想要了解更多电阻热蒸发镀膜产品的知识，欢迎拨打图片上的热线联系我们。
OLED有机无机联合蒸发系统介绍
以下是沈阳鹏程真空技术有限责任公司为您一起分享的内容，沈阳鹏程真空技术有限责任公司专业生产电阻热蒸发镀膜产品，欢迎新老客户莅临。
OLED有机无机联合蒸发系统
设备用途 ：
适用于制备金属单质薄膜、半导体薄膜、氧化物薄膜、有机薄膜等，可用于科研单位进行新材料、新工艺薄膜研究工作，也可用于大批量生产前的试验工作。与手套箱联合系统的用户群体为科研院所及实验室，电阻热蒸发镀膜机价格，将真空蒸发系统工作室置于Glove box无水、无氧、无尘的超纯环境中，电阻热蒸发镀膜机销售，PVD与Glove box硬件无缝对接，操控融合一体，广泛应用于有机、无机、钙钛矿薄膜太阳能电池、OLED等研究领域
设备组成：
该设备主要由有机/金属源蒸发沉积室、真空排气系统、真空测量系统、蒸发源、样品加热控温、电控系统、配气系统等部分组成。
技术要求：
1、镀膜室：镀膜腔室尺寸约为600×450×450mm，不锈钢材料，电阻热蒸发镀膜机，方形前后开门结构，内带有防污板。
2、抽气系统：采用分子泵 机械泵抽气系统；
3、有机源蒸发源4个，容积5ml，2台蒸发电源，可测温控温，加热温度400℃，功率0.5Kw；
3、挡板：蒸发源挡板采用自动磁力控制方式，控制其开启；
4、样品架系统：可放置大小为Φ120mm的样品，旋转速度为：0～30转/分；
5、设备带有断水断电连锁保护报警装置、防误操作保护报警装置。
6、无机蒸发源2套、容积5ml，2台蒸发电源，加热电流300A，功率3.2Kw；
7、石英晶振膜厚控制仪：膜厚测量范围0-999999?
小方分子提纯设备
主要用途：
用来生长有机材料提纯的研究工作。
系统组成: 该类设备为单室结构。
技术指标：
极限真空≤610-4Pa，电阻热蒸发镀膜机定做，工作压力≤2*10-3Pa；
系统漏率≤6.7×10-7PaL/s。
镀膜室：腔室尺寸约为Φ50×350mm，石英材料，圆柱形结构。
抽气系统：采用分子泵 机械泵抽气系统；
样品可加热，加热温度为：200-600℃；
可选分子泵组或者低温泵组合涡旋干泵抽气系统
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