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纯离子镀膜技术与PVD真空镀膜设备

发布时间:2025-02-21 14:21  点击:1次

安徽纯源镀膜科技有限公司简介:

安徽纯源镀膜科技有限公司(简称纯源镀膜),坐落于合肥市高新技术开发区永和路99号,是由新加坡归国创业团队于2014年创立的高科技公司,主要从事真空纳米镀膜设备的设计、研发、加工制造、销售、售后服务和镀膜生产服务。

公司目前拥有设计、研发、工艺、市场和生产等各方面的专业人才,在纯离子镀膜(Pure Ion Coating,简称PIC)、化学气相沉积(CVD)、磁控溅射、多弧离子镀、离子束刻蚀清洗等真空镀膜应用领域都拥有国内外先进技术。

公司目前拥有多项核心技术,自主研发制造的纯离子镀膜设备(Pure Ion Coating,简称PIC)能够制造出性能优越的金属膜、合金膜、金属化合物膜和类金刚石薄膜;另一项自主研发的核心技术产品NDT(New Diamond Technology)能够制成性能优越稳定的类金刚石薄膜。

膜层系列有Ta-C、DLC、低温氮化物膜 (TiN、CrN等)、碳化物膜 (CrC等)和高致密金属/合金膜等。

纯源镀膜制备的纳米/微米级膜层具有如下特点:镀膜温度低、无热应力、高纯度、高致密、超硬、无颗粒、耐磨损、摩擦系数小、防刮花、耐腐蚀、均匀性好、粘附性好、导电性能可调、高热导、生物相容性、抑菌性和红外/激光透过率高(适当膜层材料)等。

膜层可以广泛应用在3C消费电子、电子元器件、交通工具、刀具模具、新能源、医疗和科研等行业。

 

安徽纯源镀膜科技有限公司主要系列产品:

1、PIS纯离子镀膜机系列


系列设备主要是(集)纯离子镀膜技术(PIC)、 高能离子束清洗技术(IONBEAM)和磁控溅射技术(SPUTTER)三种技术融合一体,可适应广泛镀膜靶材,无论金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜及成膜,使膜层具有高致密度、超硬、耐磨损、耐腐蚀等特点。可镀制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、CU、AU、超级类金刚石膜(TAC、DLC)、装饰膜等非金属及其化合物的膜层和复合膜层。可编程序控制器(PLC)+触摸屏(HMI)组合电气控制系统,全自动控制。

 

2、PI光学镀膜设备系列

 

PI光学镀膜设备系列:腔体结构由装载腔室+真空镀膜工艺腔室组合而成;镀膜工艺系统由纯离子镀膜(PIC)+离子束清洗(IONBEAM)组合而成。本设备采用模块化设计,操作简单、维护方便,一键式操作即可完成多层镀膜膜沉积。可用于实现高精密模压成型模具10~300nmTAC涂层快速镀制,实现200mm有效镀膜区域2nm量级均匀性,提升模具成型温度和模具模压模次。适合光学镜头模具等高端产品的镀膜。


3、IS磁控溅射设备系列


IS磁控溅射设备系列:是(集)高能粒子束清洗技术(IONBEAM)和磁控溅射(SPUTTER)两种技术融合一体,可以适应广泛镀膜靶材,无论是金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜及成膜,使膜层附着力、致密度、重复度及颜色一致性好等特点。可镀制TiN、TiC、TiCN、TiAIN、CrN、Cu、Au、类金刚石膜(DLC)等非金属及化合物的膜层和复合膜层。全自动化界面控制,工艺配方自动运行。

4、PVD镀膜机系列


由真空电弧离子镀膜(ARC)+离子束清洗(IONBEAM)+磁控溅射(SPUTTER)组合而成。

系列设备通过冷阴极真空弧光放电活动中的正离子电流与场电子间的相互影响与制约实现电量迁移。实现高结合力、高硬度、耐磨损、耐腐蚀膜层的沉积。



5、离子刻蚀系列RIE


RIE(Reactive Ion Etching)离子刻蚀机:系列设备为真空等离子刻蚀机属于电子工业的干法清洗,工艺气体在电子区域形成等离子体,并产生电离气体和释放高能电子组成的气体,电离气体原子通过电场加速时,会释放足够的力量与表面驱逐力紧紧粘合材料或蚀刻表面,等离子体在工件表面发生反应,从而实现清洁、改性、刻蚀的目的,最后将污染物转换为气相,并通过真空泵用连续气体流将其排出。


6、Pi-TaC类金刚石膜层

 

Pi-Tac TAC涂层, 是纯源用纯离子核心镀膜技术制备的一种无氢DLC(类金刚石)涂层,其膜层可以达到70% -85% 的以上的(金刚石)SP3键含量,具有极高的硬度、极低的摩擦系数、耐磨损、耐腐蚀、防刮花、低温镀膜、均匀性好等特点。广泛应用于切削刀具、工模具、交通工具零配件、消费电子零配件等产品镀膜。

 

注明:以上数据来源于安徽纯源镀膜科技有限公司--材料实验室检测数据


安徽纯源镀膜科技有限公司

联系人:
舒平(先生)
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18356509334
地址:
合肥市高新区大别山路1599号
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