IS系列磁控溅射镀膜设备主要是(集)高能粒子束清洗技术(IONBEAM)和磁控溅射(SPUTTER)两种技术融合一体,可以适应广泛镀膜靶材,无论是金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜及成膜,使膜层附着力、致密度、重复度及颜色一致性好等特点。可镀制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、Cu、Au、金刚石膜(DLC)、装饰膜等非金属及其化合物的膜层和复合膜层。采用可编控制器PLC+触摸屏HMI组合电气控制系统,实现全自动控制。

纯源镀膜欢迎广大客商前来采购/加盟。
IS系列磁控溅射镀膜设备主要是(集)高能粒子束清洗技术(IONBEAM)和磁控溅射(SPUTTER)两种技术融合一体,可以适应广泛镀膜靶材,无论是金属还是介质、化合材料都可以利用溅射工艺进行镀膜及成膜,使膜层附着力、致密度、重复度及颜色一致性好等特点。可镀制TiN、TiC、TiCN、TiAlN、CrN、Cu、Au、金刚石膜(DLC)、装饰膜等非金属及其化合物的膜层和复合膜层。采用可编控制器PLC+触摸屏HMI组合电气控制系统,实现全自动控制。

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