高纯三乙胺——半导体有机合成中的“常用有机碱”
三乙胺在半导体材料合成中主要用作有机碱和催化剂，在光刻胶光敏剂的酯化反应和MOCVD前驱体的合成中均有使用。其适中的碱性和较高的挥发性使得反应后的残留物易于通过真空干燥去除。山东安达化工电子级三乙胺的纯度≥99.8%，水分≤0.05%，一乙胺和二乙胺总含量≤0.2%，蒸发残渣≤10ppm，金属杂质总量≤20ppb。
三乙胺易与空气中的二氧化碳反应生成氨基甲酸盐沉淀，在产品储存和使用过程中需要良好的氮气保护。山东安达化工的产品采用氮封不锈钢桶包装，使用前建议客户在氮气保护下开启和取用。每批次产品附带二氧化碳吸收量测试数据，供客户评估产品的新鲜程度。
在光刻胶剥离液的配方中，三乙胺可部分替代MEA使用，提供较为温和的碱性环境，对铝和铜金属层的腐蚀性较低。山东安达化工可为剥离液配方客户提供三乙胺替代MEA的可行性评估和样品支持