电子级甲酸——半导体清洗中的“温和蚀刻剂”应用解析
甲酸作为有机酸中酸性较强的品种，在半导体清洗和金属表面处理中作为温和的蚀刻和氧化物去除剂使用。在铜和钌等金属的CMP后清洗环节，甲酸能够有效去除金属氧化物而不对金属本体造成过度腐蚀。山东安达化工电子级甲酸产品的含量≥99.0%（滴定法），水分≤0.5%，氯化物≤1ppm，liusuan盐≤2ppm，铁≤1ppm。
该产品的应用需严格关注金属杂质和卤素离子含量——氯化物和liusuan根离子在高温工序中可能引发金属布线腐蚀。山东安达化工采用蒸馏法和离子交换树脂组合工艺，将Cl⁻和SO₄²⁻分别控制在1ppm和2ppm以下。产品包装采用氟化处理的高密度聚乙烯桶，内盖设防漏密封圈，外桶加装防震泡沫。
在新型显示领域的IGZO（铟镓锌氧化物）背板蚀刻工艺中，甲酸基蚀刻液对IGZO薄膜具有较好的蚀刻选择性和均匀性。山东安达化工可配合面板企业进行蚀刻液配方的联合开发，提供高纯度甲酸作为基础原料。