甘肃大功率XRD检测 半导体XRD物相分析

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2022-12-01 10:03:58
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大功率XRD检测半导体XRD检测——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究,兼顾重大技术应用的基础研究,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。


制作试片的技巧

压片法:粉末均匀撒入样品池——用小刀剁实压紧——刮去多余凸出的粉末

涂片法:粉末撒在25mm*35mm*1mm的载玻片上——滴上足量的或酒精(假如试样在其中不溶解)——待/酒精挥发

两种制备几乎无择优取向试片的方法:(塑合法)(喷雾法)




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气相扩散法

A:良溶剂溶液,沸点较高

B:不良溶剂,沸点较低

常用溶剂体系:

适用于极性较大化合物:MF/;MF/己烷

适用于极性较小化合物:MF/水;DMSO/水

水热法或溶剂热法

适用于特别难溶的化合物 (如二维或三维配位网络),经常在反应生成某种化合物的同时,生长其晶体。该方法有时可以得到其他方法无法得到的奇特结构;

需控制好溶剂和温度,高温条件下溶剂蒸汽自动产生一定压力,反应一段时间后,控制降温,冷却到室温之后,大功率XRD检测费用多少,收集晶体。




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5.自己使用仪器测试,测样前处理样品是否需要固体研磨时间?一份样品是否多测两次观察是否有较大差异?仪器是否有定期的矫正方法或者可以使用标准样品矫正?

答:一般情况下,大功率XRD检测分析,处理样品不需要固体研磨时间,只要样品的粒度达到要求即可;同一样品没有必要多测两次观察是否有差异,因为X射线衍射仪短期内是不会出现测样误差的;X射线衍射仪有定期的矫正方法,具体到不同型号方法不同,可以咨询应用工程师;也可以用标准物质进行矫正。

6.点光源和线光源测试的结果一致吗?

答:不一致,两种光源的应用范围不同,线光源用于常规粉末的定性定量分析、薄膜的掠入射和反射率分析等;点光源常用于织构、应力、微区等分析。

7.块体样品在对峰时需要注意什么?

答:块体样品在对峰时需要注意的地方和粉末样品一样;在测试的时候需要注意块体的高度,如果过高的话,X射线会打到块体的侧面,影响实验结果。



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