湖北BR-3 吨半导体超纯水设备

3吨超纯水设备是专为对水质纯度有极高要求的行业设计的水处理系统，每小时可稳定产出3吨电阻率≥18.2MΩ・cm@25℃的超纯水，广泛应用于半导体制造、精密电子、高端实验室等领域。设备采用“预处理+双级RO反渗透+EDI深度除盐+终端超纯化”的全流程工艺，在5吨工业纯化水设备基础上优化精度控制，实现对水中离子、微粒、有机物的深度去除，满足超高标准用水需求。

一、核心工艺架构与精度优化

（一）预处理系统：低污染预处理

多介质过滤单元：采用φ800mm316L不锈钢滤罐（单罐），内装1000mm厚级配滤料（下层4-6mm石英砂+中层2-4mm无烟煤+上层1-2mm锰砂），运行流速15m/h，浊度去除率≥99%，将原水浊度降至≤0.1NTU。反冲洗采用“气水联合+脉冲冲洗”模式（气洗强度12L/(m²・s)，水洗强度18L/(m²・s)），较5吨设备节水10%，避免冲洗残留污染。

复合净化单元：串联φ600mm活性炭滤罐（椰壳炭，碘值≥1200mg/g）与φ600mm软化罐（001×7MB核级阳离子树脂），活性炭单元余氯去除率≥99.9%（出口余氯≤0.01mg/L），软化单元将原水硬度（以CaCO₃计）降至≤0.01mmol/L，为后续RO系统提供更优质进水。

精密保安过滤：采用40英寸双联过滤器（316L不锈钢），内置0.22μm聚醚砜（PES）折叠滤芯（6支/联），对≥0.22μm颗粒截留率，确保进入RO系统的颗粒污染物≤0.05mg/L，滤芯可进行完整性测试（气泡点≥0.22MPa）。

（二）双级反渗透系统：高精度脱盐

一级RO单元：配置6支8040型抗污染反渗透膜（3支串联×2组并联），单支膜面积400ft²，设计脱盐率。运行压力1.5±0.1MPa，配备精密恒温装置（水温控制在25±0.5℃），产水量5.2m³/h。浓水侧安装能量回收装置，吨水电耗降至1.1kW・h。

二级RO单元：采用3支8040型超低污染膜（串联运行），产水量3.3m³/h。二级产水电导率≤0.5μS/cm，通过在线电导率仪（精度±0.01μS/cm）实时监控，超标时自动启动循环净化程序。

（三）深度除盐与超纯化系统

EDI深度除盐：采用2台EDI模块（IONPUREIP-LX45，并联运行），总产水3吨/小时，在直流电场（400-600V）作用下，将二级RO产水进一步纯化至电阻率≥17MΩ・cm@25℃。EDI浓水（约0.6m³/h）回流至一级RO进水端，系统整体水利用率提升。

终端超纯化：EDI产水进入抛光混床（φ400mm316L不锈钢罐），内装1:1比例的核级阳阴树脂（UP6150），进一步去除残余离子，使产水电阻率稳定≥18.2MΩ・cm@25℃。随后经0.1μmPTFE终端过滤器，确保微粒（≥0.1μm）≤1个/ml，满足超纯水标准。

（四）智能控制系统

高精度控制中枢：采用西门子S7-1500PLC，12英寸彩色触摸屏实时显示3吨/小时产水量、各段压力、电阻率、TOC等32项参数，支持历史数据追溯（存储≥3年）与远程控制（4G+以太网），可接入工厂MES系统。

微污染预警系统：配备在线TOC分析仪（检测限1ppb）、激光微粒计数器（0.1-10μm），每30分钟记录一次数据，当参数接近预警值时提前2小时发出警报，便于及时处理。

 保持稳定运行能力

超纯保障体系：

材质超纯要求：与水接触部件****采用316L不锈钢（电解抛光Ra≤0.4μm）或PTFE、PP等低溶出材料，所有管道焊接采用自动轨道焊接，内壁焊缝Ra≤0.8μm，避免污染。

防二次污染设计：产水管道采用316L不锈钢，坡度≥1%，确保排水彻底，无积水点；阀门采用隔膜阀（无死角），避免传统阀门的腔体内残留。