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- 鹏城半导体技术（深圳）有限公司
- 品牌
- 鹏城半导体HITSemi-LPCVD-150
- 基片尺寸
- 1" ~6“
- 电阻热蒸发源
- 1个～4个
- 膜厚均匀性
- 优于±5%
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- 2026-06-27 10:53:38
高真空电阻热蒸发镀膜一体设备采用电阻热蒸发技术，它是在高真空条件下，通过加热材料的方法，在衬底上沉积各种化合物、混合物单层或多层膜。
可用于材料的物理和化学研究。可用于制备金属导电电极；可用于有机材料的物理化学性能研究实验、有机半导体器件的原理研究实验、OLED实验研究及有机太阳能薄膜电池研究实验等。
主要特点
真空度高、抽速快、基片装卸方便。
PID自动控温，成膜均匀、放气量小和温度均匀。
技术参数
| 产品型号 | HITSemi-PVD-420TE |
| 基片尺寸 | 1" ~6“ |
| 电阻热蒸发源 | 1个～4个 |
| 电阻热蒸发源组件 | 钽（钨或钼）金属舟热蒸发源组件 石英舟热蒸发源组件 钨极或钨蓝热蒸发源组件 钽炉热蒸发源组件（配氮化硼坩埚或陶瓷坩埚） 束源炉热蒸发组件（配石英坩埚或氮化硼坩埚） |
| 腔体材质 | 304/316（选配）不锈钢，电解抛光 |
| 真空系统 | 分子泵+机械泵 |
| 极限真空 | 5×10-5Pa |
| 恢复工作背景真空 | 大气至7×10-4Pa，30分钟左右（新设备充干燥氮气） |
| 设备总体漏放率 | 关机12小时真空度≤8Pa |
| 工艺电源 | 直流蒸发电源、束源炉蒸发电源 |
| 基片台 | 基片台可加热600℃、可旋转2~30转/分钟、可升降、可水冷（选配） |
| 膜厚均匀性 | 优于±5% |
| 控制形式 | 半自动/全自动 |
| 等离子清洗源 | 可选配 |
| 膜厚监控 | 可选配 |
| 恒温制冷水箱 | 可选配 |
| 空气压缩机 | 可选配 |
设备工作条件
| 供电 | 三相五线制，AC 380V，50Hz；接地电阻≤1Ω |
| 功率 | 根据设备规模配置，峰值功率（10KW~20KW） |
| 冷却水 | ≤100L/min |
| 水压 | 0.1Mpa~0.15MPa |
| 水温 | 18℃～25℃ |
| 气动部件供气压力 | 0.5MPa～0.7MPa |
| 质量流量控制器供气压力 | 0.05MPa～0.2MPa |
| 工作环境温度 | 10℃～40℃ |
| 工作环境湿度 | ≤50% |