半导体工业用去离子水机纯水指标及制水技术优势

半导体工业用去离子水机纯水指标及制水技术优势
在工业生产过程中通常需要采用去离子水用于器件的清洗，提高产品的质量，去离子水一般采用应用

反渗透+EDI技术的工业高纯水设备制取而来，目前这种方法是适合用于制取去离子水的，根据行业的

不同所需水质自然也就不同。
　半导体工业用去离子水机制水技术优势
　　电子半导体工业在生产过程中对与用去离子水的需求量也非常大，采用反渗透+EDI技术制取半导

体工业用水主要有如下优势：
　　1. 无需酸碱再生： 在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生， 且需要安全储存酸碱的车间, 再生时

有大量有害废水和废弃物需处理，增加了环保和安全方面的工作困难。 而EDI则消除了这些有害物质

的处理和繁重的工作。保护了环境。
　　2. 连续、简单的操作： 在混床中由于每次再生和水质量的变化，使操作过程变得复杂，而EDI的

产水过程是稳定的连续的，产水水质是恒定的，没有复杂的操作程序，操作大大简便化。
　　3. 降低了安装的要求：EDI系统与相当处理水量的混床相比，有较不的体积，它采用积木式结构

，可依据场地的高度和窨灵活地构造。模块化的设计， 使EDI在生产工作时能方便维护。反渗透+EDI这种操作简便，无污染的半导体工业用去离子水机制备技术，已经被越来越多的人认可，目前也已经在众多电子工业厂家普及使用了。