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- 苏州微麦光电有限公司
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- 发布时间
- 2019-02-25 11:19:25
公司产品包括石英掩膜版，苏打掩膜版，以及菲林版。苏州制版根据客户的构想、草图，定制版图，苏州制版提供高质量掩膜版以及后期的代加工服务！
光刻（英语：photolithography）是半导体器件制造工艺中的一个重要步骤，该步骤利用曝光和显影在光刻胶层上刻画几何图形结构，然后通过刻蚀工艺将光掩模上的图形转移到所在衬底上。这里所说的衬底不仅包含硅晶圆，还可以是其他金属层、介质层，例如玻璃、SOS中的蓝宝石。
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光掩膜除了应用于芯片制造外，还广泛的应用与像LCD，PCB等方面。常见的光掩膜的种类有四种，铬版(chrome)、干版，凸版、液体凸版。主要分两个组成部分，基板和不透光材料。基板通常是高纯度，低反射率，低热膨胀系数的石英玻璃。铬版的不透光层是通过溅射的方法镀在玻璃下方厚约0.1um的铬层。铬的硬度比玻璃略小，虽不易受损但有可能被玻璃所伤害。应用于芯片制造的光掩膜为高敏感度的铬版。
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菲林在使用中需注意的事项
菲林密度分高密和低密两种。低密是指胶片冲洗后完全未曝光处的密度，一般在0.05左右。低密值越低越能使胶片清晰通透，晒版网点质量好。高密指胶片经100%曝光处冲洗后的实地密度。一般铜版纸印刷所用的晒版菲林要求高密值不低于3.5，通常在3.5～4.5，这样可以保证菲林上的图像信息在晒版时很好地转移到印版上。新闻纸和胶版纸印刷(含地图纸)时，因纸张吸墨性特强和印速高等原因，其高密可适当降低。