希捷科技（Seagate Technology）正加速推进位于北爱尔兰德里的新三层无尘室设施建设。3月13日，该公司向德里市和斯特拉班区议会提交了规划申请，计划部分拆除现有的单层无尘室，并取而代之建设一座全新的三层扩展无尘室。这一举措标志着希捷在存储技术制造领域的重大升级，旨在满足全球对超大规模数据存储日益增长的需求。
该扩建项目由希捷未来五年在西北地区投入的1亿英镑资金驱动，并获得了北爱尔兰投资局（Invest NI）提供的1500万英镑资金支持。希捷于去年选定ABN无尘室技术公司负责交付这座符合ISO 6级标准的无尘室设施。当前设施主要用于开发和制造能够存储60太字节（TB）数据的硬盘驱动器，这一容量已超越目前市场主流的36 TB**水平。
希捷科技首席技术官约翰·莫里斯表示："为了释放数据的全部潜力，我们需要不仅容量巨大，而且经过工程化设计以确保可靠性、耐用性和可扩展性的存储解决方案。正是这项投资实现了这一目标。"新设施的核心亮点在于集成了希捷专利的VIX概念，该设计旨在最大化气流效率，并允许在无尘室顶棚空间内无缝集成暖通空调系统，从而提升整体能效。
项目还将采用模块化ADAPTUS产品平台进行交付，该平台能在不牺牲质量、法规合规性或运营性能的前提下，实现仅用四个月即可完成的快速建设。目前的单层设施已被公认为全球记录头制造和纳米光子学研发工程的卓越中心，支持着下一代能够显著提升容量的硬盘驱动器研发。希捷在德里/伦敦德里的晶圆厂是全球仅有的五个开发和制造硬盘纳米光子组件的设施之一。
随着项目的推进，预计将新增约80个高技能岗位，支持工程、制造及与下一代存储技术计划相关的研发活动。此外，该项目还预计将为当地供应链、专业设备供应商以及参与先进制造和光子学发展的研究合作伙伴带来更广泛的利益。北爱尔兰作为全球半导体和精密制造的重要节点，其完善的产业生态和人才储备为希捷的扩张提供了坚实基础。
希捷此次在北爱尔兰的重金投入，不仅巩固了其在全球存储技术领域的领导地位，也展示了高端制造业向高附加值、高技术密度转型的趋势。对于中国存储企业而言，这种通过模块化技术缩短建设周期、利用专利设计优化能效、以及深度绑定本地研发供应链的模式，值得深入借鉴。在追求更大存储容量的同时，如何平衡研发效率、制造精度与成本控制，将是未来行业竞争的关键。