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XRD物相分析检测半导体XRD检测——广东省科学院半导体研究所是广东省科学院下属骨干研究院所之一,主要聚焦半导体产业发展的应用技术研究,兼顾重大技术应用的基础研究,从事电子信息、半导体领域应用基础性、关键共性技术研究,以及行业应用技术开发。


小角X射线散射(Small Angle X-ray Scattering)和小角X射线衍射(Small angle x-ray diffraction)是一回事吗?

早期小角 X 射线散射仅指超细颗粒在低角度范围(常指2θlt;20°)上的 X射线散射,而现在,XRD物相分析检测实验室,小角X射线散射通指在低角度范围(常指 2θlt;10°~20°)的 X 射线散射。

X-射线照射到晶体上发生相干散射(存在位相关系)的物理现象叫衍射,即使发生在低角度也是衍射。例如,某相的d值为 31.5?,相应衍射为2.80°(Cu-Kα),如果该相有很高的结晶度,31.5?峰还是十分尖锐的。薄膜也能产生取决于薄膜厚度与薄膜微观结构的、集中在小角范围内的 X 射线衍射。在这些情况下,样品的小角X射线散射强度主要来自样品的衍射,称之为角X射线衍射。对这类样品,人们关心的是其的 d 值或者是薄膜厚度与结构,河北XRD物相分析检测,必须研究其小角X射线衍射。




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X-射线照射到超细粉末颗粒(粒径小于几百埃,不管其是晶体还是非晶体)也会发生相干散射现象,也发生在低角度区。但是由微细颗粒产生的相干散射图的特征与上述的由超大晶面间距或薄膜产生的小角 X 射线衍射图的特征完全不同。小角衍射,XRD物相分析检测哪里可以做,一般应用于测定超大晶面间距或薄膜厚度以及薄膜的微观周期结构、周期排列的孔分布等问题;小角散射则是应用于测定超细粉体或疏松多孔材料孔分布的有关性质 。

X-射线照射到样品上还会发生非相干散射,其强度分别也主要集中在在低角度范围,康普顿散射就属于此类,其结果是增加背景。



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(用 X 射线衍射仪)做 X 射线衍射时,一些(仪器)参数对谱线有什么影响?

如何选择仪器参数主要取决于做 X 射线衍射的目的。比如:扫描速度,如果是一般鉴定就可以取快一些(4-8 度/分),如果是精修晶胞参数就要扫慢一些;狭缝条件,狭缝越小分辨率越高,但强度就会减小,不宜快扫,这又要增加时间。

还要根据的样品的衍射能力、结晶 度等因素来定。如果是步进扫描:测定晶胞参数可以取每个步进度 1-30 秒,如果做结构精 测 30 秒到数分钟不等(对于普通功率的衍射仪,40kV、40mA)。





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