小型HFCVD 热丝化学气相沉积设备
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小型HFCVD 热丝化学气相沉积设备

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2026-06-27 10:05:50
产品详情

小型HFCVD 热丝化学气相沉积设备,主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的科学研究。
可用于力学级、热学级、光学级、声学级的金刚石产品的科学研究。
可以研发金刚石多晶晶圆片,用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉。
可用于研发防腐耐磨硬质涂层;环保领域污水处理用的金刚石产品。
可用于平面工件的金刚石薄膜制备,也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备。
可用于太阳能薄膜电池的研发。

主要特点
热丝不塌腰(解决了热丝长时间加热塌腰问题)。

可单面镀膜也可双面镀膜。

设备安全性设计,电力系统的检测与保护、设置真空检测与报警保护功能、设置水压检测与报警保护装置、冷却循环水系统压力检测和流量检测与报警保护。

技术参数

产品型号HITSemi-HFCVD-X
基片尺寸圆形:最大φ550mm。矩形:最大1200mm x 550mm
热丝电源功率1KW~300KW可调
腔体材质304/316(选配)不锈钢,电解抛光
真空室双层水冷结构,立式D形、前后开门
真空系统机械泵
极限真空5×10-1Pa
热丝材料钽丝或钨丝
热丝温度1800℃~2500℃ 可调
工艺电源直流电源
基片台可旋转0~3转/小时、可水冷、可加偏压(选配)、由调速电机控制,可实现自动升降,(热丝与衬底间距在5mm~100mm范围内可调),要求升降平稳,上下波动不大于0.1mm
控制形式半自动/全自动
工艺气体(可定制)H2(5000sccm,浓度百分之一百)
CH4(200sccm,浓度百分之一百)
B2H6(50sccm,H2浓度99%)
Ar(1000sccm,浓度百分之一百)
恒温制冷水箱可选配
空气压缩机可选配
注:不含尾气处理系统

设备工作条件

供电三相五线制,AC 380V,50Hz;接地电阻≤1Ω
功率根据设备规模配置,峰值功率(50KW~300KW)
冷却水≤100L/min
水压0.1MPa~0.15MPa
水温18℃~25℃
气动部件供气压力0.5MPa~0.7MPa
质量流量控制器供气压力0.05MPa~0.2MPa
工作环境温度10℃~40℃
工作环境湿度≤50%

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