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- 2026-06-27 10:05:50
小型HFCVD 热丝化学气相沉积设备,主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜的科学研究。
可用于力学级、热学级、光学级、声学级的金刚石产品的科学研究。
可以研发金刚石多晶晶圆片,用于大功率器件、高频器件及大功率激光器的散热热沉。
可用于研发防腐耐磨硬质涂层;环保领域污水处理用的金刚石产品。
可用于平面工件的金刚石薄膜制备,也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备。
可用于太阳能薄膜电池的研发。
主要特点
热丝不塌腰(解决了热丝长时间加热塌腰问题)。
可单面镀膜也可双面镀膜。
设备安全性设计,电力系统的检测与保护、设置真空检测与报警保护功能、设置水压检测与报警保护装置、冷却循环水系统压力检测和流量检测与报警保护。
技术参数
| 产品型号 | HITSemi-HFCVD-X |
| 基片尺寸 | 圆形:最大φ550mm。矩形:最大1200mm x 550mm |
| 热丝电源功率 | 1KW~300KW可调 |
| 腔体材质 | 304/316(选配)不锈钢,电解抛光 |
| 真空室 | 双层水冷结构,立式D形、前后开门 |
| 真空系统 | 机械泵 |
| 极限真空 | 5×10-1Pa |
| 热丝材料 | 钽丝或钨丝 |
| 热丝温度 | 1800℃~2500℃ 可调 |
| 工艺电源 | 直流电源 |
| 基片台 | 可旋转0~3转/小时、可水冷、可加偏压(选配)、由调速电机控制,可实现自动升降,(热丝与衬底间距在5mm~100mm范围内可调),要求升降平稳,上下波动不大于0.1mm |
| 控制形式 | 半自动/全自动 |
| 工艺气体(可定制) | H2(5000sccm,浓度百分之一百) CH4(200sccm,浓度百分之一百) B2H6(50sccm,H2浓度99%) Ar(1000sccm,浓度百分之一百) |
| 恒温制冷水箱 | 可选配 |
| 空气压缩机 | 可选配 |
| 注:不含尾气处理系统 | |
设备工作条件
| 供电 | 三相五线制,AC 380V,50Hz;接地电阻≤1Ω |
| 功率 | 根据设备规模配置,峰值功率(50KW~300KW) |
| 冷却水 | ≤100L/min |
| 水压 | 0.1MPa~0.15MPa |
| 水温 | 18℃~25℃ |
| 气动部件供气压力 | 0.5MPa~0.7MPa |
| 质量流量控制器供气压力 | 0.05MPa~0.2MPa |
| 工作环境温度 | 10℃~40℃ |
| 工作环境湿度 | ≤50% |