可 LDS 的 PC的加工工艺

发布时间:2026-08-24 08:30  点击:1次
可 LDS 的 PC的加工工艺

可 LDS 的 PC 完整加工工艺

LDS-PC 的加工是"注塑成型 → 激光活化 → 化学镀金属化"三步闭环,每一步的参数窗口和缺陷控制都直接影响最终电路良率。


第一步:注塑成型

LDS-PC 的注塑与普通 PC 大体一致,但因含 LDS 添加剂(金属有机化合物),对干燥和表面质量要求更严。

工序参数窗口关键说明
干燥100–120℃,4–6h,水分≤0.02%必须用除湿干燥机(露点≤-30℃),不能用普通热风干燥;干燥不充分→银丝、气泡、冲击下降
料筒温度280–320℃薄壁 / 高流动牌号取上限;厚壁取下限,超过 320℃易热降解、添加剂分解
模温80–120℃高模温改善表面光泽、减少熔接线,利于激光活化均匀性;天线区建议≥100℃
注射压力70–140MPa帕PC 熔体黏度高,需较高压力;保压要足,否则收缩不均影响线路精度
停机处理停机 > 15–20min 需排空料筒或降温防止长时间高温滞留导致降解、LDS 添加剂失效

模具设计要点:


第二步:激光活化

这是 LDS 工艺的核心 —— 激光在塑件表面 "画出" 电路潜影。

参数典型值说明
激光波长1064nm(最常用,Nd:YAG 光纤激光)也可用 355nm(紫外)、532nm(绿光),1064nm 对 PC-LDS 添加剂活化效率最高
光束直径~30μm决定最小线宽能力,理论可做 < 100μm 线宽
激光功率1–20W(实际常用 3–10W)功率过低→活化不足漏镀;过高→周边溢镀、基材碳化
扫描速度数百–4000 mm/s速度快→单位面积能量低→活化弱;需与功率匹配做 DOE
脉冲频率最高 200kHz频率影响点重叠率和线边缘粗糙度
脉宽50–200ns(100ns 附近效果佳)脉宽影响热影响区,过宽易基材损伤
填充间距(hatch)按线宽要求设定间距过大→线路中间漏镀;过小→效率低、能量过累积

活化机理: 激光能量使 LDS 添加剂(铜铬氧化物等)分解释放金属催化核(Cu⁺等),在表面形成微观粗糙坑洞,为后续化学镀提供 "催化中心 + 机械锚点"。

关键经验:


第三步:化学镀金属化

活化后的塑件浸入化学镀液,只有激光活化区能催化金属离子还原沉积。

典型镀层结构(Cu/Ni/Au):

工序作用厚度 / 参数
前处理清洗去除脱模剂、油污、灰尘弱碱清洗 + 水洗,避免损伤活化面
化学预镀铜打底,确保全覆盖、无漏镀薄铜层,沉积速率约 8–12μm/h
化学厚铜加厚到目标导电厚度总铜厚通常 5–15μm(天线常用 8–12μm)
化学镀镍阻挡层,防铜氧化扩散1–3μm
化学镀金表面保护层,提升可焊性 / 耐磨0.05–0.1μm(闪金)

可选表面处理: 镀锡(Sn)、镀银(Ag)、Pd/Au、OSP 有机保焊膜等,按后续组装工艺(SMT 回流焊、邦定、接触导通)选择。

化学镀要点:


第四步:后处理与组装


常见缺陷与排查

缺陷可能原因解决方向
漏镀 / 不上镀激光功率低 / 速度快→活化不足;添加剂分散不均;表面有脱模剂;前处理过度清洗掉活化层提高激光能量 / 降速;确认原料批次;减少脱模剂;优化前处理
溢镀 / 桥接激光功率过高→周边热活化;镀液活性过强;过镀时间长降功率 / 提速度;调整镀液参数;缩短镀时
镀层脱落激光粗化不足;表面有油污 / 脱模剂;塑化不良导致表面疏松优化激光参数增加粗糙度;加强清洗;调整注塑工艺
线宽不均 / 边缘毛糙激光参数波动;扫描重叠率不当;曲面未补偿稳定激光器;优化 hatch 和功率;分区参数
塑件银丝 / 气泡干燥不充分;料温过高降解严格干燥工艺;降低料温 / 缩短滞留
熔接线处漏镀熔接线区域添加剂取向 / 密度变化改浇口位置 / 数量,让熔接线移出天线区;提高模温改善熔接

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